研究與中試條件一、工程研發能力
“柔性制造”平臺：模塊化、知識密集、可變尺度和可快速配置。業內規?；?、跨尺度、可快速配置的微納微加工與制造條件。
1、微納結構制備（圖形化）：幅面42寸、0.25um分辨率、1.5um線寬以上任意圖形；幅面42寸、100nm及以上特征結構的納米結構。
擁有大型紫外微圖形無掩模直寫系統（iGrapher820）、超大型（65”）激光直寫光刻系統（MiScan1500系統）、大型微納米混合光刻直寫系統（HoloScanV）；精密電鑄系統，激光刻蝕系統、激光簽注系統；紫外納米光子晶體直寫系統（HoloMakerIIIc）、高速紫外圖形直寫系統，多軸激光并行光刻系統（MicroLab100）；大型紫外接近式曝光系統（EXPOSURE-Scan）。
2、納米壓印工藝
※ 柔性納米壓印模板
※ 200nm點陣以上周期結構，1微米以上結構復制、微流控、生物芯片。
※ PMMA、PC、PET材料：壓印器件，微納結構壓印薄膜
※ UV coating 膠
擁有UV卷對卷納米壓印設備7套；熱壓納米壓印設備套、納米轉移設備，濺射與熱蒸發蒸鍍設備以及相關其他設備。
3、LIGA工藝、激光刻蝕
※ 深紋精密模具：線寬10um-200um，深度5um-100um
※ 觸摸屏、太陽能電池電極等精密印刷Ni網版
※ 圖形刻蝕（矩陣、蜂窩、棋盤、圓形、直線等）
※ 位相光柵、衍射元件、全息圖、精密圖形、MEMS
※ LED導光logo、3D成像、空間動感成像（懸浮成像）
4、微結構器件
※ Micro-structure patterns
※ 基材：PC，Si，石英等
※ 圖形分辨率1um，深寬比可達5:1，尺寸100mmx100mm
※ 用于二元光學位相結構
※ 微流控芯片、生物芯片等。
擁有精密電鑄系統、激光直接刻蝕系統、激光簽注系統；納米壓印設備、輥筒激光刻蝕設備、大尺寸平板激光刻蝕設備等。
二、工程化設備
具有微納加工、柔性材料與器件、跨尺度微納裝備的光、機、電、算工藝一體化實驗和中試條件，可全方位為客戶和合作方提供服務和方案支持。
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寬幅激光全息制版系統（HoloScanVe）
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大型微納米混合干涉光刻系統（HoloMakerIIIc）
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高速紫外圖形化直寫系統（iGrapher200-810）
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雙頭混合紫外激光光刻系統（MiScan）
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精密多軸激光并行光刻系統（MicroLab100）
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超大型紫外激光掩膜直寫系統（iGrapher150）
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紫外納米光子晶體直寫系統（6"-12”）（NanoCrystal）
- 精密電鑄系統（40"-65”）：21套；
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大型激光刻蝕系統（平板刻蝕、輥筒刻蝕系統）
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激光簽注系統
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大型紫外接近式曝光系統（EXPOSURE-Scan）
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UV卷對卷納米壓印設備（14”-65"）
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熱壓納米壓印設備
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納米涂布與轉移設備
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濺射-熱蒸發蒸鍍設備以及相關其他設備
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大型光刻膠板涂布設備
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激光全息曝光系統
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光學檢測平臺
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精密絲印設備
三、核心技術
1、超大尺寸快速圖形化光刻技術
●大尺寸紫外激光投影直寫光刻系統
●超大尺寸微-納混合圖形化直寫系統
● 多軸微納加工設備（新產品）
● LED光子晶體快速光刻系統
特色：（1）65英寸光掩膜（2um線寬）光刻能力。65英寸300nm周期光子晶體或者納米陷光結構的光刻能力。（2）25寸精密光掩膜（0.5um微米分辨率，1微米線寬；0.25um分辨率，1um線寬）；支持大尺寸精密導電電路（2um線寬）的快速直寫光刻。
2、納米壓印技術與模板制造
● UV納米壓印工藝與裝備
● 卷對卷納米壓印系統（新產品）
150納米線寬、300納米周期結構的亞波長光學結構、材料與器件的研發條件。1300nm門幅的納米結構光學薄膜的研發條件。雙面UV納米壓印技術是工程研究中心的特色技術。
3、顯示材料與器件：微納光學膜新方法
● 精密激光刻蝕與模具制備系統：支持32寸導光模具制備
● 熱壓型卷對卷納米壓印系統與關鍵工藝技術：超薄LED導光板（擴散復合功能）
● 微鏡擴散模具制備技術、
● 大尺寸透明導電傳感器
4、3D成像與顯示：機理和技術
● 3D成像與顯示材料的設計與制備技術：3D激光打印系統
● 基于微透鏡薄膜的激光空間成像技術
● 真彩色立體圖像處理、 三維真彩色顯示屏
四、研究條件（場地）
6000平米實驗樓，其中，3000平米凈化實驗室。中試線：4000平米中試基地（凈化）：柔性制造中試基地（微納光學、光電膜）、微納圖形化與器件加工中試基地（納米圖形化、光子晶體、納米功能器件與材料）。
五、檢測儀器
微納設備與檢測儀器：光刻膠涂布、紫外光刻、ICP、IRE、電鑄、納米壓印、激光直寫、超聲清洗；涂布設備、激光蝕刻系統、微納圖形化直寫、蒸鍍設備、UV納米壓印設備、全息實驗系統、薄膜結構轉移、直接熱壓印系統、和大幅面LIGA工藝；臺階儀、金相顯微鏡、3D共焦顯微鏡、原子力顯微鏡和氣相色譜儀等。
